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全自动双腔半导体快速退火炉RTP

<p><span style="text-indent: 30px; text-wrap: wrap;">RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，适用6寸8寸片快速热退火制程。</span></p>
桌面型快速退火炉RTP,快速热处理退火炉

<p><span style="text-indent: 30px; text-wrap: wrap;">RTP-Table-6桌面型快速退火炉是在保护气氛下的桌面快速退火系统，以红外卤素灯管加热，精准控制升温，保证良好的重现性与温度均匀性，适用6寸快速退火制程。</span></p>
半自动半导体快速退火炉RTP

<p><span style="font-family: ">RTP-SA-12半自动快速退火炉是在保护气下的半自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 4-12 英寸片。</span></p>
小型真空等离子清洗机

<p>SDV-D16L1真空等离子清洗机专为小批量样品设计，在高压电场下，工艺气体电离形成等离子体，实现表面清洁与改性。该设备移动便捷、配置多样、操作简便且运行稳定。</p>
RPS远程等离子源SPR-08

<p>SPR-08是一款基于电感耦合等离子体技术的自成一体的原子发生器，它的功能是用于半导体设备工艺腔体原子级别的清洁，使用工艺气体三氟化氮（NF3）/O2，在交变电场和磁场作用下，原材料气体会被解离，从而释放出自由基，活性离子进入工艺室与工艺室上沉积的污染材料（SIO/SIN）或者残余气体（H2O、O2、H2、N2）等物质产生化学反应，聚合为高活性气态分子经过真空泵组抽出处理腔室，提高处理腔室内部洁净度。</p>
大腔体真空等离子清洗机

<p><span style="color: rgb(101, 113, 128); font-family: -apple-system-font, BlinkMacSystemFont, ">针对汽车内饰件制程中植绒、包覆工艺前，通过qm球盟会·(中国)球盟会真空等离子进行表面处理，可有效提升PP等材料的表面活性，使其更易与包覆材料结合，从而提高包覆的牢固度和耐久性。</span></p>
在线片式真空等离子清洗机PT-RF-A-12

<p>在线片式真空等离子清洗机主要用于半导体行业引线框架表面清洗产品表面污染物，提高表面活性，增强附着性能。</p>
ICP干法等离子去胶机ST-6100

<p>微波等离子去胶机反应速度快，反应时间短，处理过程温度低<br/></p><p><br/></p>
半导体晶圆筒式去胶机ST-3300

<p>处理过程温度低，能在高气压下维持等离子体</p>
真空等离子镀膜机
USC显示屏干式超声波除尘

<p>3μm尘粒97%的清除率，6μm尘粒98%的清除率<br/></p><p><br/></p>
SPA-2600大气等离子清洗机

<p>适用于处理各种小面积、处理轨迹精度高、边角部分多材料的表面清洗活化，搭配射流直喷枪头<br/></p><p><br/></p>

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