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快速退火炉设备

全自动双腔半导体快速退火炉RTP

<p><span style="text-indent: 30px; text-wrap: wrap;">RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是在保护气氛下的全自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer或样品，工艺时间短，控温精度高，适用6寸8寸片快速热退火制程。</span></p>
桌面型快速退火炉RTP,快速热处理退火炉

<p><span style="text-indent: 30px; text-wrap: wrap;">RTP-Table-6桌面型快速退火炉是在保护气氛下的桌面快速退火系统，以红外卤素灯管加热，精准控制升温，保证良好的重现性与温度均匀性，适用6寸快速退火制程。</span></p>
半自动半导体快速退火炉RTP

<p><span style="font-family: ">RTP-SA-12半自动快速退火炉是在保护气下的半自动立式快速退火系统，以红外可见光加热单片 Wafer 或样品，工艺时间短，控温精度高，适用 4-12 英寸片。</span></p>

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