所属分类：等离子去胶机
可BAW/SAW工艺中的光阻去除，配备单腔双腔两种类型
ICP 干法等离子去胶机主要用于聚合物去除、ASHING、DESCUM、离子注入后光阻去除、表面残留物清除等。ST3100腔体适用于4-8寸样品，单次处理片数1片；ST3200腔体适用于4-8寸样品，单次处理片数2片。
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